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[供应]利用扫描式电子显微镜(SEM)量测PMMA

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更新日期：2014-09-29 09:11:19
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利用扫描式电子显微镜(SEM)量测PMMA 详细信息

利用扫描式电子显微镜(SEM)量测PMM
利用扫描式电子显微镜(SEM)量测PMMA 受EUV 光照射后
的样品表面图貌，并观测到PMMA 随着曝光剂量的相变化，其相变化表
面形貌的差异可能是因为释气物质无法释出所致，此一现象为剥蚀现象
导致薄膜样品膜厚的变异
但因物效应性质；故在EUV 区段中，涂布底部抗反射层其主
要功能是增加光阻附着www.aosvi.com 力、避免因底层下方污染扩散至光阻所产生的光
阻毒化现象、增进平坦化之辅助成像功能，故在EUV 微影光阻底下辅助
成像的材料又称为底层材料(UL， Underlayer material)

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