简介:
美国AEPTechnology公司主要从事半导体检测设备,MEMS检测设备,光学检测设备的生产制造,是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。
NANOMAP500LS三维形貌仪,既有高精密度和准确度的局部(Local)SPM扫描,又具备大尺度和高测量速度;既可用来获得样品表面垂直分辨率高达0.05nm的三维形态和形貌,又可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸,诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等,并计算关键部位的面积和体积等参数。样件无须专门处理,在高速扫描状态下测量轮廓范围可以从1nm到10mm。该仪器的应用领域覆盖了薄膜/涂层、光学,工业轧钢和铝、纸、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介质和半导体等几乎所有的材料领域。
 
特点:
1.    针尖扫描采用精确的压电陶瓷驱动扫描模式,三维扫描范围从10μmX10μm到500μmX500μm。样品台扫描使用高级别光学参考平台能使长程扫描范围到50mm。
2.    在扫描过程中结合彩色光学照相机可对样品直接观察。
3.    针尖扫描采用双光学传感器,同时拥有宽阔测量动态范围(最大至500μm)及亚纳米级垂直分辨率(最小0.1nm)
4.    专业的SPIP分析软件
5.    软件设置恒定微力接触。
6.    简单的2步关键操作,友好的软件操作界面。
 
产品参数:
1.    纵向分辨率:0.1nm
2.    重复精度:0.54nm(1σ@1000nm)
3.    接触力:0.01mg~100mg
4.    纵向量程:500umor1000um
5.    探针扫描范围:10um~500um
6.    样品台扫面范围:500um~100mm
7.    采样速率:100Hz
8.    彩色CCD
9.    视场分辨率:512X512像素
10. 视场放大:4级调节480X480um到1.5X1.5mm
11. 自动平台:150mmX150mm运动范围
12. 样品台:150mm直径,200mm可选
13. 探针:标注:2um曲率半径,100nm接触面积;0.05~25um曲率可选
14. 标准台阶高度样品,美国NIST标定:500nm;100um两块