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黄光室是进行IC晶片微影成像术的区域，将光阻材料利用旋镀法被覆在晶园上，而后再放置于曝光机下进行曝光，以使紫外线光源透

 

过光罩照射于光阻而得到感光图像，最后再以药剂进行显影而得到实际图像。


    早期曝光机的光源为全光谱光源，后演进到G-LINE（436 mm）光源，目前最为广泛使用的为I-LINE（436mm）光源，对于

 

0.3ūm线宽以下的IC制程，则需采用深紫外线（deep UV）248mm光源，甚至X光或电子束，目前光源较采用高压水银（汞）弧灯，由

 

于其特性频谱，所以须经过滤光片以获得所需的I－LINE(365mm)光线。