工艺特点:
RC-M92半光亮镍工艺是专门为防腐蚀性能要求高的电镀件而设计,是双层镍或多层镍系统电镀中的半光亮镍底层。
镀层含硫量低于0.003%,半光亮镍层与光亮镍层电位差达120-145mv,耐蚀性极好
镀层柔软性好,覆盖能力强,填平效果极佳
光亮剂浓度高,消耗量小
不含香豆素,分解产物少,镀液稳定,容易维护,降低了废水处理和活性碳处理的成本。
镀液配制方法
在预备槽中注入三分之二的纯水,加热至60-70℃ 加入所需的硫酸镍及氯化镍,搅拌使其完全溶解.在另一个容器中,将所需的硼酸用水加热溶解后,倒入上述溶液中.
加入2毫升/升30%的双氧水(稀释后再加入),并搅拌1小时,再加温至65-70℃,搅拌2小时,以除去多余的双氧水.
在55-60℃时,加入2-3克/升的活性碳,搅拌1小时.保温静置4-8小时后,再过滤镀液,并加入纯水到所需的刻度,用稀硫酸或4%的氢氧化钠(化学纯)溶液,调整PH值至4.0左右.
用波浪状的假阴极,以低电流密度(0.2-0.5安培/平方分米)连续电解12小时以上,或直至低电位颜色由暗黑色变成浅灰色.
最后加入计算量的各种添加剂,便可以开始电镀.
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