光亮镀镍工艺特点:
具有快速光亮及填平能力,沉积速度快
镀层柔软,色泽白亮美观
高均镀能力,低电位覆盖能力极强。
操作范围宽,单一光亮剂添加,容易控制 杂质容忍度高
适合作为镀铬、青铜、金、银等金属之光亮镍底层。
对于大部分镀镍工艺可直接补充此光亮剂,进行转缸
光亮镀镍镀液配制方法:
在预备槽中注入三分之二的水,加热水至65-70℃;加入所需的硫酸镍及氯化镍,搅拌使其完全溶解,加入碳酸镍或4%的氢氧化钠溶液,调整酸碱度为5.2。
加入2.5毫升/升的双氧水(先用水稀释)和2.5克/升的活性碳,搅拌数小时后静置整晚,然后将镀液滤入清洁的电镀槽中;再将过滤泵清洗干净,装上活性碳备用。
加入所需的硼酸,再用稀硫酸调整镀液的PH值至4.0。
用波浪状的假阴极,以低电流密度(0.1-0.5安培/平方分米)连续电解12小时以上,或直到低电位颜色由暗黑色变浅灰色。
最后加入以上的各种添加剂,便可以开始。