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X-RAY膜厚测量仪的基本操作软件是WINFTM V6 LIGHT，在这件软件的支持下可以同时间测量多至层镀层、或进行多至5元素的合金分析、又或是最多测量两个正离子的药水浓度测量分析,用于电子元器件,半导体,PCB,汽车零部件,功能性电镀,装饰件,连接器等多个行业. 高性能、高精密、高分辨。

X-RAY膜厚测量仪的一般技术规格:
1.使用的范围:用于测量薄膜层的厚度及电镀药水中的成份分析.
2.元素范围 :从CL(17)to铀(92),同时可检测多至5个元素,甚至多到24种元素也可检测.
3.测量方向:X射线方向是由上向下的设计.
4.X射线源:钨靶及铍窗口的X-射线管
5.高压: 可调节30KV,40KV,50KV
6.准值器:0.3mm,(选配圆形0.1mm,0.2mm,长方形0.3mm*0.05mm)
7.接收器:比例接收器
8.采用高解像的CCD彩色摄影机来监测测量位置,影像的摄影是与基本X-射线光束在相同的轴上,在对焦方便可作手动或自动对焦,对位的十字线是可以调校其刻度及测量点的大小,而且可以调节照明用的发光二极管的光亮度.

X-RAY膜厚测量仪是可用于镀层分析,有限的控制生产品质.德国菲希尔铜层膜厚分析仪原厂出口,质量有所保证, 并且稳定性高,测量准确.

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