常州欣凯锐标牌设备制造有限公司

曝光机更广范围的紫外光波长选择，出射光强范围： 8mW/cm2~40mW/cm2
　　支持恒定光强或恒定功率模式
　　广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领。

　　常见曝光机举例：MYCRO美国制造的恩科优（N&Q）紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。

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