岩征仪器台式臭氧清洗仪是一种干式清洗,不需要任何的溶剂,是非常高效的精密清洗方式,同时对清洗表面没有损伤。紫外臭氧清洗技术作为硅片清洗,TFT玻璃基等清洗应用,也是表面改性的一种非常重要的技术。
岩征仪器台式臭氧清洗仪光清洗过程提供一种简单,经济,快速获得超洁净的表面,去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,砷化镓,氧化铝*等)上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时,紫外清洗非常理想。获得超洁净的表面,只需要在传统清洗后,再用紫外臭氧清洗过程几分钟就可以达到专业级的清洁效果。 岩征仪器台式臭氧清洗仪可以去除:皮肤油脂,有机硅油和油脂,助焊剂,残留的光刻胶,胶水溶剂,碳等。怎样说是“超”洁净? 接触角测量方法4-5度。适用AES和ESCA测量细微的峰值。使用蒸汽测试,在冷凝和蒸发时形成一致的彩虹装的条纹。通常情况下,使用清洗或是超声清洗工序后,清洁关键表面认为完成。紫外臭氧清洗提供一种新的清洗尺度。在传统清洗工序后加入紫外清洗的应用,产品的性能和可靠性的提升不断的证明这种新的清洗尺度的价值。 岩征仪器台式臭氧清洗仪工作原理:是低压石英汞灯,产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生,有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解。激发的有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体,比如CO2,H2O等。整个过程在室温发生,并且只需要1到几分钟完成。 岩征仪器台式臭氧清洗仪关键特性: ?间歇式灯泡工作方式。 ?滑行部件托盘-光滑-低震动,滚珠轴承系统-高度到1.5英寸。 ?坚固耐用,全部不锈钢结构 ?长寿命。低压石英水银蒸汽灯发射254nm和185nm UV,促进快速氧化,去除微量的有机残留物。 ?全面UV保护让设备操作更安全。 ?更低设备采购成本和操作成本。 ?0-999秒/分钟/小时定时器,能够精确控制。 ?UV "ON"指示灯和可见窗口。 ?操作简单:设定定时器,打开门,抽出托盘,将元件放在托盘上。将托盘滑入并关闭门。在清洗操作过程结束有蜂鸣声。打开门,移开全部的清洗元件。
岩征仪器台式臭氧清洗仪典型应用包括:
?表面的原子级清洗 ?聚合物粘接 ?去除有机分子 ?释放捕获的无机分子 ?微流控制作 ?微米/纳米构型 ?紫外光固化 ?表面化学改性 ?表面杀菌 ?表面氧化 ?金属粘结准备
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