产品介绍 真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。产品属性 需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。 使用方法 严格按照产品说明书操作使用,如出现不能解决的问题及时拨打我们的售后电话故障排除
详细内容请见产品说明书操作使用,如出现不能解决的问题及时拨打我们的售后电话。安装、维护
1. 开水泵、气源 2. 开总电源 3. 开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。 离子镀膜设备+所镀产品图
4. 开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。 5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源注意事项 1真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上,应清洁工作室一次。
2当粗抽泵(滑阀泵,旋片泵)连续工作一个月(雨季减半),需更换新油。
3、扩散泵连续使用6个月以上,抽速明显变慢,或操作失当,充入大气,拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。其他说明 蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过 蒸发镀膜设备+所镀产品图
程,最终形成薄膜。交易说明 欢迎广大客户来厂、参观选购