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[供应]鄞州半导体封装超纯水设备,微电子工业清洗高纯水设备
- 产品产地:苏州
- 产品品牌:伟志
- 包装规格:全自动
- 产品数量:200
- 计量单位:台
- 产品单价:190000
- 更新日期:2020-12-23 14:16:21
- 有效期至:2030-12-21
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鄞州半导体封装超纯水设备,微电子工业清洗高纯水设备
详细信息
鄞州半导体封装超纯水设备,微电子工业清洗高纯水设备
半导体清洗超纯水设备水质标准:
 
   半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
 
新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
 
半导体清洗超纯水设备制备工艺:
 
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺) 
 
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥16MΩ.CM)(最新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(最新工艺) 
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