,薄膜沉积控制仪在模块化的基础上建立了温度测量薄膜
控制系统。支持扩展4个输入输出口和探头(2个标准仪器),实时的频率-温度曲线
和500℃操作晶体。传统的检测和测量手段由于忽视了晶体温度的变化带来了极大的
误差,通常误差为10%,在错误的环境下误差可以为100%。菲利浦通过监测实时的温
度变化,从而对薄膜进行高精度极低误差控制。
薄膜沉积控制仪有非常高的稳定度和菲利浦产品惯有的精密度。6MHz(AT or RC
)的石英晶体前所未有的应用在了薄膜沉积领域。
 
功能齐全
可扩展的额外组件比如前面板的外部控制界面和后面板的探头、I/O卡。Millennium 控制系统包含一个过温控制继电器(以防探头冷却失灵)和输入/输出的可编辑性,给您全部的软件功能控制。
 
技术参数
探头2个BNC 连接端(需要外部振荡器)
温度2 type K TC
输入源2 0-5 VDC 输入控制
继电器(不可编辑) 2个单刀单掷开关
输入端(可编辑) 8个独立的5V输入端
输出端(可编辑) 8个5A单刀单掷开关继电器
远程电源手动电源控制-前面板FOB连接头
可扩展输入源卡2个输入源、探头、继电器和type K TC
输入:8个独立的5V输入端
输出:8个5A单刀单掷
DAC 记录器可根据用户的选择出发
参数用户可以扩展 0-5V输出速率和厚度
产品来源:http://www.tjbrillante.com/brillante-Products-19401147/
其他产品信息咨询:http://www.chem17.com/st274318/product_19690907.html     光电化学工作站