苏州晶洲装备科技有限公司

主营:硅片腐蚀清洗剂,有机化学清洗台,硅片超声波清洗机,掩模盒清洗机,有机腐蚀清洗机
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[供应]酸清洗台-半导体清洗设备-苏州晶洲装备科技有限公
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  • 产品产地:全国
  • 产品品牌:kzone
  • 包装规格:无
  • 产品数量:1
  • 计量单位:普通
  • 产品单价:0
  • 更新日期:2014-09-29 09:11:19
  • 有效期至:2015-09-29
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酸清洗台-半导体清洗设备-苏州晶洲装备科技有限公 详细信息

适用于:2-6寸硅片清洗 产品规格 控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动) 总体规格: 1200mm(L)×1100mm(W)×2000mm(H) 工件:2-6寸硅片 产能:25片/槽 按客户产能需求设计 电源:380V,50HZ,2KW 纯水:CL-PVC 进口DN25 管径,0.2~0.3 MPa 压力,用量MAX:2m3/h 抽风口:φ200*1 抽风量MAX:700m3/h ,风量口装有蝶阀,可手动调节 CDA: 0.4~0.6 MPa 压力,接管口径 ∮8mm,用量MAX:0.5m3/h N2: 0.4~0.6 MPa 压力,接管口径 ∮8mm,用量MAX:2m3/h 设备特点: 1. 半导体清洗设备骨架为SUS304外包3mmPP,外壳采用德国进口PP-W板焊接; 2. 半导体清洗设备采用10.4英寸“PROFACE”触摸屏人机界面操作和“三菱”PLC控制; 3.半导体清洗设备的槽体设置温度、液位监控装置; 4.半导体清洗设备 之药液槽配透明槽盖,有效防止药液挥发,污染; 5.半导体清洗设备的清洗区域配有高效过滤器,无二次污染机会; 6.半导体清洗设备采用耐腐蚀导线并通过耐腐蚀PE 管进行保护,防腐防水; 7.半导体清洗设备底部安装3mm 厚PP 防漏托盘,有效防止设备漏液损害厂务地板; 8.用户操作人员上料后,全过程自动化控制,减少人工干预。设备具有自动化程度高、运行成本低、生产效率高、性能稳定、安全可靠等特点; 9.半导体清洗设备安全性能高,设备在防漏液、加热、漏电等方面都做了严格的设计,确保人身和厂务安全; 地址:江苏省常熟市辛庄光伏产业园光华环路32号 邮编:215500 总机:0512-52992666 传真:0512-52210111 销售热线:0512-52992301-8010 邮箱:sales@kzonetech.com 网址:www.kzonetech.com 张翠平:18852441913

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