光学镜片清洁超纯水设备|苏州伟志水处理设备有限公司|反渗透设备，纯水设备，废水处理设备，软

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[供应]光学镜片清洁超纯水设备

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产品产地：苏州
产品品牌：伟志
包装规格：s14030
产品数量：100
计量单位：套
产品单价：1
更新日期：2019-11-09 14:05:22
有效期至：2020-11-08
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光学镜片清洁超纯水设备详细信息

苏州镜片清洗用超纯水设备|光学镜片清洁超纯水设备

【边虹玉17714225379】

一、光学镜片清洗用超纯水设备系统简介
    光学镜片的清洗主要是指镜片抛光后残余抛光液、黏结剂、保护性材料的清洗；镜片磨边后磨边油、玻璃粉的清洗；光学镜片镀膜前手指印、口水圈以及各种附着物的清洗。光学镜片在制作过程中表面会粘付一些溶剂、药水等需要进行清洗，为了保证镜面的洁净度防止烘干后产生水痕，需要电导率0.1μs/cm2的超纯水进行漂洗。
    光学镜片用超纯水设备系统的清洗工艺包括四个流程：洗涤、漂洗、脱水、干燥。
    因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗，所以有不同的工艺：有先进行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗；也有先进行溶剂清洗，再用乳化剂溶解溶剂，再进行水基清洗的。利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂洗。

影响漂洗效果的因素有以下几个：

洗剂的漂清性能，漂洗水的纯度、温度以及流动性等。一般在常温下，电导率为0.1μs/cm2的超纯水可以保证漂洗的要求。
经过漂洗后的光学镜片表面的洁净度应和漂洗水洁净

光学镜片清洗用超纯水设备系统常用的处理工艺为反渗透＋混合离子交换法，或更为先进的反渗透+EDI（电去离子法）使产品水水质能达到0.1μs/cm２，相比之下，后者成本相对高些。
    反渗透+混床高纯水系统的产水电阻率达到1-15兆姆25℃，采用双极混床可达电阻率达到15-18兆欧姆25℃，应用领域十分广泛。
    反渗透+混床高纯水系统是利用反渗透系统除去水中95-97%以上的离子杂质，再用后级混床精处理，除去水中剩余离子，产水水质电阻率一般达到1-15兆欧姆25℃反渗透与混床的完美结合，有着设备投资省，运行成本低，管理维护方便等特点.反渗透技术是利用压力差为动力的膜分离过滤技术，源于美国二十世纪六十年代宇航科技的研究，后逐渐转化为民用，目前已广泛运用于科研医药食品饮料海水淡化等领域。
    （RO）反渗透膜孔径小至纳米级，在一定的压力下，H2O分子可以通过RO膜，而源水中的无机盐重金属离子有机物胶体细菌病毒等杂质无法通过RO膜，从而使可以透过的纯水和无法透过的浓缩水严格区分开来.
     混床是混合离子交换柱的简称，是针对离子交换技术所设计的设备.所谓混床，就是把一定比例的阳阴离子交换树脂混合装填于同一交换装置中，对流体中的离子进行交换脱除.由于阳树脂的比重比阴树脂大，所以在混床内阴树脂在上阳树脂在下.一般阳阴树脂装填的比例为1：2，也有装填比例为1：1.5的，可按不同树脂酌情考虑选择.混床也分为体内同步再生式混床和体外再生式混床.同步再生式混床在运行及整个再生过程均在混床内进行，再生时树脂不移出设备以外，

且阳阴树脂同时再生，因此所需附属设备少，操作简便，具有以下优点：
(1)出水水质优良，出水pH值接近中性.
(2)出水水质稳定，短时间运行条件变化如进水水质或组分、运行流速等对混床出水水质影响不大.
(3)间断运行对出水水质的影响小，恢复到停运前水质所需的时间比较短.
二、光学镜片超纯水设备系统工艺流程
反渗透设备+EDI制取镜片清洗用超纯水
采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取高纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的高纯水制备工艺，其基本工艺流程为：
原水箱→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软水器-精密过滤器→反渗透设备→纯水箱→电去离子（EDI）→超纯水箱
这种方法用来制取超纯水的工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。

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