ITO靶的主要生产工艺是:将三氧化二铟和三氧化二锡按一定比例混合均匀——-冷等静压成坯——-热等静压制成靶——-线切割——-客户需要尺寸
1、产品:氧化铟锡靶材相对密度为:RD99;纯度≥99.99%
2、化学成分
In2O3    :  SnO2    =  90:  10(m/m),偏差为±0.5%(m/m)。
In2O3    :  SnO2    =  97:  3(m/m),偏差为±0.5%(m/m)。
3      物理性能
3.1      相对密度:相对密度≥99%;密度均匀性偏差≤±0.2%;
3.2    电阻率:≤2.0Ω·mm2/m;
3.3    平均线膨胀系数:(2~9)×10-6  ℃-1    ;
3.4    失氧率:≤5%
4  物理规格
氧化铟锡靶材呈片状或其它形状,最大尺寸为∮250*300,其规格尺寸及其偏差由供需双方商定。