深圳市众诚达应用材料科技有限公司的合金平面靶材有着先进的配方工艺,采用真空熔炼、粉末冶金技术,生产的合金靶材系列具有合金成分均匀,致密性好,含氧量低,纯度高等特点,可根据客户要求加工成不同尺寸、形状、厚度的产品,靶材性能优异。相对密度100%,纯度> 99.95%,该合金平面靶材主要应用于薄膜太阳能工业、液晶显示、有机发光二极管、光学和低辐射玻璃等。
    深圳市众诚达应用材料科技有限公司主要生产经营磁控溅射镀膜靶材和靶材绑定。溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属,合金,陶瓷,硼化物等。