深圳市众诚达应用材料科技有限公司

深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售靶材。ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。

深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售磁控溅射用的靶材，EMI溅射镀膜具有以下特点：

价格低（国内拥有自主知识产权的话）。

真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5～2μm，绝对不影响装配。

真空溅射是彻底的环保制程，绝对环保无污染。

欲溅射材料无限制， 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用（例：铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等）。

被溅射基材几无限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy

    resin等）。

膜质致密均匀、膜厚容易控制。

附著力强（ASTM3599方法测试4B）。

可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且，可随客户指定变换镀层次序。