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[供应]供应二氧化硅东莞超细二氧化硅JD-300
- 产品产地：广东
- 产品品牌：新玛特
- 包装规格：JD-300
- 产品数量：100
- 计量单位：吨
- 产品单价：13000
- 更新日期：2024-04-29 13:44:04
- 有效期至：2034-04-27
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供应二氧化硅东莞超细二氧化硅JD-300
详细信息
玻璃及玻璃刻字
平板玻璃、浮法玻璃、玻璃制品（玻璃罐、玻璃瓶等）、光学玻璃、玻璃纤维、玻璃仪器、导电玻璃、玻璃布及防射线特种玻璃等的主要原料。
特殊用途：玻璃刻字：先在玻璃瓶上涂一层石蜡，再用锐器刻上字，再用氢氟酸在刻字的蜡上涂抹一遍，.稍等片刻字迹即可显现出来。原理：氢氟酸腐蚀二氧化硅。
陶瓷及耐火材料
瓷器的胚料和釉料，窑炉用高硅砖、普通硅砖以及碳化硅等的原料。
冶金
硅金属、硅铁合金和硅铝合金等的原料或添加剂、熔剂。
建筑
混凝土、胶凝材料、筑路材料、人造大理石、水泥物理性能检验材料（即水泥标准砂）等。
化工
硅化合物和水玻璃等的原料，硫酸塔的填充物，无定形二氧化硅可作为吸附剂来使用。
机械
铸造型砂的主要原料，研磨材料（喷砂、硬研磨纸、砂纸、砂布等）。.
电子
高纯度金属硅、通讯用光纤等。
在微电子工艺中，SiO2薄膜因其优越的电绝缘性和工艺的可行性而被广泛采用。在半导体器件中，利用SiO2禁带宽度可变的特性，可作为非晶硅太阳电池的薄膜光吸收层，以提高光吸收效率还可作为金属2氮化物2氧化物2半导体(MNSO)存储器件中的电荷存储层，集成电路中CMOS器件和SiGeMOS器件以及薄膜晶体管(TFT)中的栅介质层等。此外，随着大规模集成电路器件集成度的提高，多层布线技术变得愈加重要，如逻辑器件的中间介质层将增加到4～5层，这就要求减小介质层带来的寄生电容。鉴于此，现在很多研究者都对低介电常数介质膜的种类、制备方法和性能进行了深入研究。对新型低介电常数介质材料的要求是:在电性能方面具有低损耗和低耗电在机械性能方面具有高附着力和高硬度在化学性能方面要求耐腐蚀和低吸水性在热性能方面有高稳定性和低收缩性。目前普遍采用的制备介质层的SiO2，其介电常数约为4.0，并具有良好的机械性能。如用于硅大功率双极晶体管管芯平面和台面钝化，提高或保持了管芯的击穿电压，并提高了晶体管的稳定性。这种技术，完全达到了保护钝化器件的目的，使得器件的性能稳定、可靠，减少了外界对芯片沾污、干扰，提高了器件的可靠性能。
20世纪80年代末期，Si基SiO?光波导无源和有源器件的研究取得了长足的发展，使这类器件不仅具有优良的传导特性，还将具备光放大、发光和电光调制等基本功能，在光学集成和光电集成器件方面很有应用前景，可作为波导膜、减反膜和增透膜。随着光通信及集成光学研究的飞速发展，玻璃薄膜光波导被广泛应用于光无源器件及集成光路中。制备性能良好的用作光波导的薄膜显得至关重要。集成光路中光波导的一般要求:单模传输、低传输损耗、同光纤耦合效率高等。波导损耗来源主要分为材料吸收、基片损耗、散射损耗三部分。通过选用表面粗糙度高、平整的光学用玻璃片或预先溅射足够厚的SiO?薄膜的普通玻璃基片，使波导模瞬间场分布远离粗糙表面，以减少基底损耗。激光器用减反膜的研究也取得了很大的进展。中国工程物理研究院与化学所用溶胶凝胶法成功地研制出紫外激光SiO2减反膜。结果表明，浸入涂膜法制备的多孔SiO2薄膜比早期的真空蒸发和旋转涂膜法制备的SiO?薄膜有更好的减反射效果。在波长350nm处的透过率达到98%以上，紫外区的最高透过率达到99%以上。该SiO?薄膜有望用于惯性约束聚变(ICF)和X光激光研究的透光元件的减反射膜。目前在溶胶凝胶工艺制备保护膜、增透膜方面也取得了一些进展。此法制备的SiO?光学薄膜在惯性约束聚变的激光装置中已成为一种重要的手段，广泛地应用于增透光学元件上，如空间滤波器、窗口、靶室窗口或打靶透镜。在谐波转换元件KDP晶体上用溶胶工艺镀制保护、增透膜，能改善KDP晶体的工作条件，提高谐波光束的质量与可聚焦功率。
橡胶、塑料
在橡胶中添加二氧化硅，可提高橡胶的耐磨度。
可降低轮胎滚动阻力的同时可改善轮胎的耐磨性和抗湿滑性。
使用二氧化硅的胶料拉伸强度、撕裂强度、耐磨性等均有提高。
涂料
填料（可提高涂料的耐候性）、可用来生产消光剂，亦可以作为涂料增稠剂。
食品、药品
在食品工业中主要用于防止粉状食品聚集结块，以保持自由流动的一类食品添加剂或用于吸附液态的香料、油脂、维生素等，使之成为粉末状，如粉末油脂、固体香料和固体酒之类制品。（例：奶粉）
在药品生产中可作为助流剂、催化剂载体等。
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