无锡雷士超声波设备有限公司

雷士多晶硅超声波清洗设备

1. 清洗对象 多晶硅

2. 去除物 碱迹、酸迹、灰尘
3. 使用溶剂 一般为水剂+弱碱性清洗液
4. 选频/振荡频率 采用28KHZ 功率4KW
5. 清洗槽内径1200*400*300mm
6. 配件 清洗篮 
7.清洗方法： 
1．清洗槽内加入适量水溶液，应能保证放入多晶硅后清洗液不溢出。
2．面板所有开关打到“关”位置，将清洗机插头插入220V的插座。
3．将多晶硅均匀放入清洗篮，清洗篮放入超声波清洗槽中。
4．打开电源开关，超声波清洗机开始工作，清洗时间约1小时左右。
8.优点 
本机取代了传统浸洗、刷洗、压力冲洗、振动清洗和蒸气清洗等工艺方法，安全可靠无损伤，对多晶硅表面、细缝和隐蔽处清洗效果更好，清洁度更高，并且清洗速度快，提高生产效率。


1雷士振板超声波清洗机由不锈钢SUS304制造，使用寿命长。 
2超声波发生器与振板之间采用高频电源连接。 
3根据各种不同清洗要求，可以做成底震式、侧震式和顶震式三种超声波振板形式。
4有些单位有现成的清洗槽，可以在这基础上添加振板装置，改装成超声波清洗机。
5宽频扫描技术，消除驻波，使超声波能量分布更均匀，消除清洗盲区。
6频率自动根踪功能，适应不同的负载、温度、液位。
7灵活的拆装形式，更自由更可靠