江苏实为半导体科技有限公司-上海MOCVD配套设备配件1234a3211
是国内前列的MOCVD等半导体设备的核心部件和耗材供应商。由唐山实为半导体和海外专家陈景升共同投资组建,公司注册资金2000万,总部在邳州,并在苏州设有办事处。我国的半导体制造业在近年有了长足发展,但所使用的设备还主要来自国外,如MOCVD主要从美国和德国进口。1234a3211
VeecoSomitJoshi在“用于提高功率器件性能的硅基氮化镓MOCVD进展”的演讲中表示,新兴的中/高电压应用在电力供应,替代能源以及数据中心,都需要更高的功率效率,满足较高的工作温度以及更小的系统规模。氮化硅在这些参数上远远好于硅。1234a3211
由于工艺的严苛要求,这些设备在使用过程中有些关键部件只有一定寿命,需要定期更换。同时这些部件的技术升级对于提升设备整体的性能非常有效。目前这些备件主要是从国外大量进口,价格昂贵并且技术升级缓慢,国产化替代的需求十分强烈,市场前景非常广阔。结合我司技术团队多年在国外从事半导体研发的经验,通过刻苦攻关,我司填补了国内商用大功率MOCVD加热器的空白,受到客户的高度肯定。-上海MOCVD配套设备配件1234a3211为了安全,一般的MOCVD系统还备有高纯从旁路系统,在断电或其它原因引起的不能正常工作时,通入纯N2保护生长的片子或系统内的清洁。在停止生长期间也有常通高纯N2保护系统。1234a3211
反应气体经反应室后大部分热分解,但还有部分尚未完全分解,因此尾气不能直接排放到大气中,必须先进行处理,处理方法主要有高温热解炉再一次热分解,再用硅油处理也可以把尾气直接通入装有H2SO4+H2O及装有NaOH溶液的吸滤瓶处理也有的把尾气通入固体吸附剂中吸附处理,以及用水淋洗尾气等。1234a3211
通常MOCVD系统中的晶体生长都是在常压或低压(10-100Torr)下通H2的冷壁石英(不锈钢)反应室中进行,衬底温度为500-1200℃,用射频感应加热石墨基座(衬底基片在石墨基座上方),H2通过温度可控的液体源鼓泡携带金属有机物到生长区。1234a3211
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