半导体清洗剂 配方分析 成分分析
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半导体清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。
半导体清洗剂主要有表面活性剂、增效剂及有机溶剂等成分,经科学加工制备而成。具有水溶性好、渗透力强等优点。能有效去除半导体工艺中的材料和器材,薄膜工艺中的玻璃和金属表面上玷污的有机物、灰尘等。 有效消除静电,然后通过喷淋和烘干使器件表面洁净,达到无有机物和灰尘粘附的效果。不污染环境,不易燃烧,属于非破坏臭氧层物质,清洗后的废液便于处理排放,能够满足环保三废排放要求。
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