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{硅片清洗剂解析}
晶圆清洗剂广泛用于光伏，电子等行业的晶圆清洗由于硅片在运输过程中会受到污染，表面清洁度不是很高，这对即将到来的腐蚀和蚀刻有很大的影响，因此第一步是在晶圆表面进行一系列的清洁操作。清洁的一般思路是首先去除表面的有机污染物，然后溶解氧化膜，因为氧化物层被“染色和捕获”，这将导致外延缺陷然后去除颗粒，金属等，同时钝化硅晶片的表面。

{硅片清洗剂成分分析}
晶圆清洗剂由苛性钾，缓蚀剂，络合剂和助剂组成。试剂级腐蚀性钾碱为洗涤液提供皂化碱度高效缓蚀剂，络合剂和助剂硅片清洗剂由各种表面活性剂复配而成。提供坚硬的表面强力渗透，协同成分，充分发挥各自的性能，对各种油脂，悬浮液和油性土壤进行研磨，乳化，皂化，油污清洗率大于98％，对金属离子有很强的络合作用和对于铜和铁的清洁效果，剥离率为99％或更高。它不含金属离子，如钙，镁，铁，铜和铅。它具有良好的环保性和高度准确性。