东莞市鼎伟靶材有限公司

真空镀膜主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化，造成靶与氩气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀，基本的原理是在真空中利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。

鼎伟新材料专业提供贵金属：金、银、铂、钌、铑、钯、锇、铱靶材蒸发颗粒贵金属合金靶材


规格：（平面圆靶，方靶，台阶靶均可加工，规格按客户要求定做）最薄0.1MM
     
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贵金属：金、银、铂、钌、铑、钯、锇、铱
高纯金：金靶、金粒、金丝、金电极、金片、金粉
纯度：3N、3N5、4N、4N5、5N
规格：金靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格按客户要求定做）  金粒（规格Φ2*5mm，Φ2*10mm，其他规格定做）
   金丝（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他规格定做）
   金片（根据客户要求定做）
   金粉（根据客户要求定做）
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高纯银：银靶、银粒、银丝、银电极、银片、银粉
纯度：3N、3N5、4N、5N
规格：银靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格按客户要求定做）  银粒（规格Φ2*5mm，Φ2*10mm，其他规格定做）
   银丝（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他规格定做）
   银片（根据客户要求定做）
   银粉（根据客户要求定做）
 
高纯铂：铂靶、铂粒、铂丝、铂电极、铂片、铂粉
纯度：3N、3N5、4N、4N5、5N
规格：铂靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格按客户要求定做）  铂粒（规格Φ2*5mm，Φ2*10mm，其他规格定做）
   铂丝（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他规格定做）
   铂片（根据客户要求定做）
     铂粉（根据客户要求定做）
高纯Ru钌：钌靶、钌粒、钌块、钌片、钌粉
纯度：3N、3N5、4N、4N5
规格：钌靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格按客户要求定做）  钌块（不规则块状，块状大小可根据客户要求）
     钌粉（根据客户要求定做）
高纯Rh铑：铑靶、铑粒、铑块、铑粉
纯度：3N、3N5、4N
规格：铑靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格按客户要求定做）  铑块（不规则块状，块状大小可根据客户要求）
     铑粉（根据客户要求定做）