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真空管式炉立式管式炉专业生产厂家

 KSF1700系列箱式气氛炉应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1000℃、1200℃、1300℃、1500℃、1600℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。

 KSFQ1700系列箱式气氛炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速对温控系统降温，气氛炉采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院机构、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

二、KSFQ1700系列箱式气氛炉规格型号
型号 炉膛尺寸
（mm）d×w×h 功率（kw） 最高温度℃ 加热元件 电压 升温速率 外形尺寸
（mm）l×d×h
KSFQ1700-Ⅰ 200×150×150 4 1700℃ 硅钼棒 220v ≤20℃/min 550*450*700
KSFQ1700-Ⅱ 300×200×200 6 1700℃ 硅钼棒 220v ≤20℃/min 650*500*750
KSFQ1700-Ⅲ 300×250×250 8 1700℃ 硅钼棒 380v ≤20℃/min 650*550*800
KSFQ1700-Ⅳ 400×300×300 12 1700℃ 硅钼棒 380v ≤20℃/min 750*600*850

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