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[供应]603-III 高真空磁控溅射设备
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  • 产品产地:
  • 产品品牌:603-III 高真空磁控溅射设备
  • 包装规格:603-III 高真空磁控溅射设备
  • 产品数量:0
  • 计量单位:
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  • 更新日期:2013-12-17 08:00:04
  • 有效期至:2014-12-17
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603-III 高真空磁控溅射设备 详细信息

603-III 高真空磁控溅射设备

型号:603-III
地点:美国
状态:AS IS,WHERE IS (我们提供翻新、安装、保修服务,额外收取合理费用
包装:卖方负责(如果需要)
保修/退款:无 说明:Inline Sputtering System
真空系统:Cryo Pumped ,Vacuum System CTI CryoTorr 8 with CTI 8500 Series Compressor, Leybold D60A Roughing Pump
Target尺寸:4 3/4" x 14 7/8"
DC阴极数量:3
RF阴极数量:0
RF刻蚀阴极数量:1
工艺气体数量:1
残余气体分析仪:0
DC Power:10.00 kW DC (MRC制造)
RF Generator:1500 Watts(MRC制造)
RF Matching Network:包括
其他信息:Controller:
• Analog closed-loop control and monitored by microcomputer
• Process is fully automatic
• Process parameters are accomplished via keyboard entry and displayed on CRT
Substrate pallet size: 13" x 13"
Pallet carrier: Chain drive. Speed adjustable from 39.3"/min to 120"/min
Quartz substrate heater adjustable to 600 C.
INSET DC cathodes
Facilitiy Requirements
• Water: 4.0 gpm, 70 psig, 60 degrees F
• Air: 70-100 psig, filtered, 1 cfm.
• Sputtering gas: 3-5 psig
动力要求: 208 V 60 Hz 3 Phase
尺寸:
Width 78.000 in (198.1 cm)
Depth 56.000 in (142.2 cm)
Height 72.000 in (182.9 cm)
重量: 2,288 lb (1,038 kg)
如果对此设备有兴趣,请邮件联系我们。
 

广州谭美电子科技有限公司(www.tanmytech.com)( sales@tanmytech.com)代理多家美、欧一流的半导体设备公司的产品,公司主要经营高真空磁控溅射设备、量测设备、涂胶显影设备、PECVD设备、RIE/ICP/DRIE深刻蚀设备、电子扫描显微镜、快速退火、等离子去胶、等离子刻蚀、电子束蒸发、湿法工艺设备。


我们拥有广泛的采购网络、强大的专业设备服务队伍、先进的质量检验检测手段和国际领先的软件开发和升级技术,可为客户提供各类进口半导体设备及备品备件、并提供长期优质的售后服务及技术支持保障。通过技艺精湛的设备生产、翻新,保证我们的设备具有出色的运作表现,能够满足客户的多种需求,降低客户的生产成本。
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经营产品:

Hitachi FE-SEM 5000电子扫描显微 Lam Rainbow 4420 4520 4620 4720 AG Heatpulse自动传片视频 Hitachi FE-SEM 4500电子扫描显微 KLA-Tencor 量测设备 Plasmalab 80 Plus RIE刻蚀 MRC 903M 高真空磁控溅射设备 603-III 高真空磁控溅射设备 MXP Multiplex ICP HR Plasma-Therm Unaxis 790 PECVD DR Semitool Spray Solvent Tool (SST 湿法去胶机 Semitool WST606MG Hitachi FE-SEM 4700电子扫描显微 Hitachi FE-SEM 4800电子扫 Heatpulse 8108快速退火炉 Hitachi CD-SEM S-8820量测设备 Heatpulse 4100快速退火炉 Gasonics Aura 3010 等离子去胶

零件销售:

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