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[供应]MXP Multiplex ICP HR
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  • 产品产地:USA
  • 产品品牌:MXP Multiplex ICP HR
  • 包装规格:MXP Multiplex ICP HR
  • 产品数量:0
  • 计量单位:
  • 产品单价:0
  • 更新日期:2013-12-17 08:01:23
  • 有效期至:2014-12-17
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MXP Multiplex ICP HR 详细信息

MXP Multiplex ICP HR

制造商: Surface Tech Sys
型号: MXP Multiplex ICP HR
Wafer 尺寸:
Minimum 50 mm
Maximum 200 mm
Set Size 150 mm
工艺: Chlorine Etch
Loadlock :是
Loadlock Pump :Edwards E2M40
High Vacuum Pump: Pfeiffer MAG 2000
Roughing Pump :Edwards IQMB250 & IQDP80
RF Generator : ENI/ACG-3B and Advanced Energy RFG 3001
Number of Gas Inputs: Five Gas
Process Gases: BCl3, Cl2, O2, Ar, He
Chillers :Huber/Unistat 140W
附件: ICP V2 - Balun coil
Mechanical Clamp
Helium Backside Cooling
Carousel in MkIV MPX - 2 x 150mm wafers
3KW Source
300/30W platen
Purge gas line
E-Rack Modules: HCL1 +HCU3 +HCU5+VAC3Y +2x AMC1 +HBC2
其他信息: Windows 2000
Current Power Requirements: 400V , 50Hz, 40 Amp, 3 phase
Unit can be configured for: 208/460, 60 Hz, 3 Phase.
CE Marked YES
制造年份: 2003
 

广州谭美电子科技有限公司(www.tanmytech.com)( sales@tanmytech.com)代理多家美、欧一流的半导体设备公司的产品,公司主要经营高真空磁控溅射设备、量测设备、涂胶显影设备、PECVD设备、RIE/ICP/DRIE深刻蚀设备、电子扫描显微镜、快速退火、等离子去胶、等离子刻蚀、电子束蒸发、湿法工艺设备。


我们拥有广泛的采购网络、强大的专业设备服务队伍、先进的质量检验检测手段和国际领先的软件开发和升级技术,可为客户提供各类进口半导体设备及备品备件、并提供长期优质的售后服务及技术支持保障。通过技艺精湛的设备生产、翻新,保证我们的设备具有出色的运作表现,能够满足客户的多种需求,降低客户的生产成本。
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经营产品:

Hitachi FE-SEM 5000电子扫描显微 Lam Rainbow 4420 4520 4620 4720 AG Heatpulse自动传片视频 Hitachi FE-SEM 4500电子扫描显微 KLA-Tencor 量测设备 Plasmalab 80 Plus RIE刻蚀 MRC 903M 高真空磁控溅射设备 603-III 高真空磁控溅射设备 MXP Multiplex ICP HR Plasma-Therm Unaxis 790 PECVD DR Semitool Spray Solvent Tool (SST 湿法去胶机 Semitool WST606MG Hitachi FE-SEM 4700电子扫描显微 Hitachi FE-SEM 4800电子扫 Heatpulse 8108快速退火炉 Hitachi CD-SEM S-8820量测设备 Heatpulse 4100快速退火炉 Gasonics Aura 3010 等离子去胶

零件销售:

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