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[供应]Heatpulse 4100快速退火炉
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  • 产品产地:USA
  • 产品品牌:Heatpulse 4100快速退火炉
  • 包装规格:Heatpulse 4100快速退火炉
  • 产品数量:0
  • 计量单位:台
  • 产品单价:0
  • 更新日期:2013-12-17 07:59:29
  • 有效期至:2014-12-17
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Heatpulse 4100快速退火炉 详细信息

Heatpulse 4100快速退火炉

原制造商:AG Associates
设备类型:快速退火炉
AG Associates Heatpulse 4100系列快速退火系统具有成本低,适用面广等优点。是专门为半导体器件生产厂家快速退火工艺设计制造的退火系统,被广泛应用验证。该系统采用自动传片系统(Video),适用于标准硅片、复合半导体材料和其他材料的晶片,晶片尺寸可从3英寸到6英寸。操作简便,自动化程度高,已广泛应用在半导体制造产业。
Heatpulse 4100优越的工艺控制: 单片,闭环温度控制;
快速升温与降温控制;
工艺重复性高;
4组加热灯可分别控制,提高温场均匀性。Heatpulse 4100工艺用途: 离子注入后快速退火
欧姆接触快速合金
硅化物合金退火;
氧化物生长;
其它快速热处理工艺。Heatpulse 4100 同管式高温炉的比较: 一般管式高温炉只能设定一个工艺条件,即一个温度;
工艺周期长,使用不太灵活;
须24小时加电恒温,能耗较高;
快速退火炉可以设定多个工艺条件,即多种温度;
快速退火炉工艺时间短,使用非常灵活;
快速退火炉能耗很低;
快速退火炉同一台设备既可用作生产,也可用作科研,且任何科研工艺条件不会对生产工艺造成影响。Heatpulse 4100 同其他同类快速退火炉的比较: 更广泛被行业使用,市场保有量第一
更容易取得备件
成本低
更容易取得服务   

广州谭美电子科技有限公司(www.tanmytech.com)( sales@tanmytech.com)代理多家美、欧一流的半导体设备公司的产品,公司主要经营高真空磁控溅射设备、量测设备、涂胶显影设备、PECVD设备、RIE/ICP/DRIE深刻蚀设备、电子扫描显微镜、快速退火、等离子去胶、等离子刻蚀、电子束蒸发、湿法工艺设备。


我们拥有广泛的采购网络、强大的专业设备服务队伍、先进的质量检验检测手段和国际领先的软件开发和升级技术,可为客户提供各类进口半导体设备及备品备件、并提供长期优质的售后服务及技术支持保障。通过技艺精湛的设备生产、翻新,保证我们的设备具有出色的运作表现,能够满足客户的多种需求,降低客户的生产成本。
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经营产品:

Hitachi FE-SEM 5000电子扫描显微 Lam Rainbow 4420 4520 4620 4720 AG Heatpulse自动传片视频 Hitachi FE-SEM 4500电子扫描显微 KLA-Tencor 量测设备 Plasmalab 80 Plus RIE刻蚀 MRC 903M 高真空磁控溅射设备 603-III 高真空磁控溅射设备 MXP Multiplex ICP HR Plasma-Therm Unaxis 790 PECVD DR Semitool Spray Solvent Tool (SST 湿法去胶机 Semitool WST606MG Hitachi FE-SEM 4700电子扫描显微 Hitachi FE-SEM 4800电子扫 Heatpulse 8108快速退火炉 Hitachi CD-SEM S-8820量测设备 Heatpulse 4100快速退火炉 Gasonics Aura 3010 等离子去胶

零件销售:

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