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[供应]供应VKL-2/3/5/10系列真空等离子清洗机系统
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- 更新日期:2023-11-15 11:53:35
- 有效期至:2024-11-14
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供应VKL-2/3/5/10系列真空等离子清洗机系统
详细信息
VKL-2/3/5/10系列真空等离子清洗机系统
关键词:等离子,13.56MHZ,真空清洗机,2L
产品介绍:
     VKL-2/3/5/10系列真空等离子清洗机系统是国内目前应用广泛的真空等离清洗机,性能优越,可以同时处理物理和化学等材料清洗材料。两档操作模式,两路气压操作系统,全触摸屏操作,处理参数任意设定,是目前高校先进材料清洗的首选设备。
产品应用领域:
1、光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质,去除金属材料表面的氧化物。
2、清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。
清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。
3、高分子材料表面的修饰。封装领域中的清洗和改性,增强其粘附性,适用于直接封装及粘和。改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
4、涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增强表面粘附性、浸润性、相容性,显著提高涂覆镀膜质量。
5、牙科领域中对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理,增强其浸润性和相容性。
6、医用领域中修复学上移植物和生物材料表面的预处理,增强其浸润性、粘附性和相容性。对医疗器械的消毒和杀菌
 
主要技术参数:
 
 
 
型号
VKL-2
VKL-3
VKL-5
VKL-10
腔体材料
                          石英玻璃
腔体容量
2L
3L
5L
10L
内腔尺寸
100×200Lmm
150×200Lmm
150×270Lmm
220×280Lmm
射频电源功率
0-300W可调
射频功率
13.56MHZ
RF放射
无
频率偏移量
小于0.2KHZ
等离子体轰击方式
从四周往中间
腔体内温度
≦30°C/       ≦65°C
清洗时间
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