薄膜沉积控制仪厂家的详细资料：

整合了Nucleus PlusTM  技术，薄膜沉积控制仪在模块化的基础上建立了温度测量薄膜

控制系统。支持扩展4个输入输出口和探头（2个标准仪器），实时的频率-温度曲线

和500℃操作晶体。传统的检测和测量手段由于忽视了晶体温度的变化带来了极大的

误差，通常误差为10%，在错误的环境下误差可以为100%。菲利浦通过监测实时的温

度变化，从而对薄膜进行高精度极低误差控制。

薄膜沉积控制仪有非常高的稳定度和菲利浦产品惯有的精密度。6MHz（AT or RC

）的石英晶体前所未有的应用在了薄膜沉积领域。

功能齐全

可扩展的额外组件比如前面板的外部控制界面和后面板的探头、I/O卡。Millennium 控制系统包含一个过温控制继电器（以防探头冷却失灵）和输入/输出的可编辑性，给您全部的软件功能控制。

技术参数

探头2个BNC 连接端（需要外部振荡器）

温度2 type K TC

输入源2 0-5 VDC 输入控制

继电器（不可编辑） 2个单刀单掷开关

输入端（可编辑） 8个独立的5V输入端

输出端（可编辑） 8个5A单刀单掷开关继电器

远程电源手动电源控制-前面板FOB连接头

可扩展输入源卡2个输入源、探头、继电器和type K TC

输入：8个独立的5V输入端

输出：8个5A单刀单掷

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